寧靜海遊記

電子束物理蒸鍍( Electron-Beam Physical Vapor Deposition 簡稱EB-PVD)：第一個商業上用於渦輪葉片的披覆式塗層(Overlay coating)為電子束物理蒸鍍，此製程可使用多元素蒸鍍於實際葉片上，為滿足物理、化學、機械上要求，必須修改一些工程上的細部問題，這些不同差異如下：

1. 基材預熱在與主要蒸鍍艙相連接的預熱室，此為獲的良好的附著性及鍍層良好的增厚。

2. 在主要蒸鍍艙與相連接的預熱室間裝有緊密的閥門，以防止在預熱過程中進入污染物，造成阻止鍍層長厚的缺點。

1. 必須考量到熔池與基材的距離、熔池面積、電子束銲槍的功率大小等，以能保持基材的溫度，增加鍍層附著性。
2. 必須有另外加熱器，能提供額外的溫度控制。
3. 必須有在旋轉零件上每分鐘增厚10 – 20 mm的能力才足與其他鍍層方式競爭。
4. 能在葉片基材上，藉旋轉(rotate)及傾斜(slew)方式使葉片的根部(root)及底部平台面(platform)都能獲得均勻的鍍層。
5. 可由同一熔池獲得多種元素同時蒸鍍：這一項牽涉到下列互相牽扯的複雜關係：開始鑄錠(熔池的平均成分)、由熔池底部供應的鑄錠成分、蒸鍍金屬蒸氣的成分及在基材上凝集的披覆鍍層成分。

例如McrAlY塗層含有0.3%Y，則熔池必須含有20%Y才能滿足所需。其他影響因素還有熔池深度、基材溫度及移動方式、電子束聚焦及掃描方式。實際上電子束物理蒸鍍經常顯示其鍍層為晶粒鍵結微弱的柱狀結構。對於金屬鍍層，此種結構可使用玻璃珠珠擊將結構密集化(densify)，或藉近攝氏1080度的真空熱處理使晶粒重新結晶，提高強度。然而氧化物陶瓷絕熱塗層必須經由活性蒸發(reactive evaporation)產生細微柱狀結構，因此柱狀結構有助於抵抗沖蝕(erosion)。

物理蒸鍍介紹網站：http://www.etafilm.com.tw/Thinfilm_filter_Deposition_History_ch.html

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